本工藝出光速度快填平佳，色澤白亮；走位佳，適合復(fù)雜形狀工件之掛鍍，亦適合滾鍍；所得鍍層韌性優(yōu)良，可滿足二次加工的需要；電流密度范圍極寬，耐雜質(zhì)能力強(qiáng)，維護(hù)使用極為方便。一、 液組成和作業(yè)條件：
| 成 份 | 標(biāo)準(zhǔn)含量 | 范 圍 |
| 硫酸鎳 | 280g/L | 230-340g/L |
| 氯化鎳 | 50g/L | 40-60g/L |
| 硼 酸 | 45g/L | 35-50g/L |
| 主光劑 | 0.5ml/L | 0.3-1.0ml/L |
| 柔軟劑 | 8ml/L | 5-12ml/L |
| 走位劑 | 10ml/L | 8-15ml/L |
| 濕潤劑 | 2ml/L | 1.5-3.0ml/L |
| PH | 4.2 | 3.8-4.5 |
| 溫 度 | 55℃ | 50-60℃ |
| 陰極電流密度 | 4 | 1-12A/dm |
| 陽極電流密度 | 2 | 1-4A/dm |
| 攪拌 | 潔凈空氣攪拌 |
| 連續(xù)過濾 | 必須 |
| 陽極材料 | 含硫鎳塊或電解鎳塊 |
| 陽極袋 | 聚丙稀布袋 |
二、 光亮劑之添加及控制：1、 主光劑維持鍍層之光亮效果，消耗量為80-120ml/1000安培小時。2、 走位劑維持鍍層良好的柔軟效果，并使低電流區(qū)覆蓋良好，一般只在大處理后加入，補(bǔ)充量約為3-5ml/L。3. 柔軟劑保持鍍層的覆蓋能力，消耗量為100-120ml/1000安培小時。4、濕潤劑是一種防孔劑，防止鍍層出現(xiàn)針孔。
