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電鍍加工需要提供溫度來進行拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等，若溫度低于某一定值，就會失去光滑的腐蝕表面，故存在一個形成光澤面的臨界點，在臨界點以上的溫度范圍內拋光效果較好。而這個溫度范圍又因液體的組成不同而異，如果高于這個溫度范圍，會形成點蝕、局部污點或斑點，使整個拋光效果降低。此外，合肥電鍍，溫度越高，材料的溶解損失也越大。

(2)銅及其合金的化學拋光。銅和單相銅合金可在磷酸一一醋酸或硫酸一一鉻酸型溶液中進行化學拋光

在使用過程中需經常補充，拋光時如果二氧化氮析出較少，零件表面呈暗黃色時，可按配置量的1/3補充。為防止過量的水帶入槽內，零件應干燥后再拋光。

(3)鋁及鋁合金的化學拋光。為獲得光亮的表面，必須嚴格控制拋光液的含量。含量過低，拋光速度慢且拋光后表面光澤性差；含量過高，容易發生鱗狀腐蝕。磷酸濃度低時，電鍍金，不能獲得光亮的表面，為了防止溶液被稀釋，拋光前的零件表面應干燥。醋酸和硫酸可以抑制點狀腐蝕，使拋光表面均勻、細致。硫酸銨和尿素可以減少氧化氮的析出，并有助于改善拋光質量。少量的銅離子可以防止過腐蝕，從而提高拋光表面的均勻性，電鍍廠家，但含量過高又會降低拋光表面的反光能力。鉻酐可以提高鋁鋅銅合金的拋光質量，含鋅、銅絲高的強度鋁合金在不含鉻酐的拋光液中，難以獲得光亮的表面。

經化學拋光的零件，一般應在室溫下于400—500g/L的中或在100~200g/L的鉻酐溶液中，浸漬數秒至數十秒，以除去表面的接觸銅。

真空蒸鍍的關鍵參數

飽和蒸氣壓(PV): 在一定的溫度下，真空室中蒸發材料的蒸氣在與固體或液體平衡過程中所表現的壓力.飽和蒸氣壓與溫度的關系曲線對于薄膜制作技術有重要意義，它可以幫助我們合理選擇蒸發材料和確定蒸發條件。

真空度：P ≤ 10-3 Pa（保證蒸發，粒子具分子流特征，以直線運動）

基片距離 (相對于蒸發源)：10~50 cm（兼顧沉積均勻性和氣相粒子平均自由程）蒸發出的原子是自由、無碰撞的， 沉積速度快。容易根據蒸發原料的質量、蒸發時間、襯底與蒸發源的距離、襯底的傾角、材料的密度等計算薄膜的厚度。

從***減少電鍍廢氣

通過改變電鍍工業生產的工藝流程，或采用無毒材料，使電鍍生產過程中，達到有毒有害廢氣零排放的目的。

1 在電鍍過程中，對鍍件清洗時，電鍍銀，叫投采用堿洗除油、酸洗除繡，因此，在清洗溶液中，分別添加酸霧、堿霧，可以有效減少酸霧、 堿霧的排放。2鉻霧的抑制，可以采用低溫設備或低溫工藝流程，同時在鍍絡溶液中加入少售的全氟醚磺酸鹽，并注意全氟院醚磺酸鹽配置方法和配比，可以有效抑制鉻霧的產生。此外，還可以在鍍銘槽表面，覆蓋一層聚乙烯、聚材質的空心小球，也能有效抑制鉻霧釋放。3氮氧化物的抑制，抑制電鍍工藝中氮氧化物的排放，可以采用不加的電鍍工藝流程，如鋁件電鍍時，采用硫酸和磷酸，再加入少量的添加劑，即可對鋁件進行拋光。另一方面，利用化學氧化法和化學還原法，將氧化成或者將氮氧化物氣體還原成無毒的惰性氣體。