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電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點(diǎn)在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過(guò)動(dòng)能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，真空鍍膜廠在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng)，薄膜的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料，但是對(duì)靶材的要求高，不能象電子qiang一樣節(jié)約資源。目前運(yùn)用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場(chǎng)，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡(jiǎn)單的一種，所以運(yùn)用非常廣。

鞋類(lèi)材料的鞋材真空鍍膜技術(shù)是采用物理或化學(xué)方法在固體表面涂上特殊性能的涂層，手機(jī)配件IP電鍍工廠，從而使固體表面具有耐磨性，耐高溫性，耐腐蝕性，輻射防護(hù)性，導(dǎo)電性，磁導(dǎo)率和絕緣性裝飾和裝飾等許多優(yōu)點(diǎn)都優(yōu)于固體材料本身，這可以提高產(chǎn)品質(zhì)量，延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命，節(jié)省能源并獲得重大的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)效益。因此，鞋材真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為具發(fā)展前景的Z重要技術(shù)之一，在高科技產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中顯示出誘人的市場(chǎng)前景。這項(xiàng)新興的鞋材真空鍍膜技術(shù)已應(yīng)用于國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域，例如航空，航天，電子，信息，機(jī)械，石油，化工，環(huán)保等領(lǐng)域。

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來(lái)的沉積技術(shù)。在真空條件下，真空鍍膜廠采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過(guò)程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類(lèi)型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。

表離子鍍的種類(lèi)及其特點(diǎn)

直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv～5kv  惰性氣體1pa，0.25ma/cm2  結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，膜層結(jié)合力強(qiáng)，但鍍件溫升高，手機(jī)配件IP電鍍廠家在哪，分散性差！

耐熱，潤(rùn)滑等鍍件

弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa  離化率高，易制成反應(yīng)膜，可在高真空下成膜，深圳手機(jī)配件IP電鍍，利于提高質(zhì)量  切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v～200v

惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵(lì)法  電阻、電子束  射頻電場(chǎng)13.56mhzdc:0.1kv～5kv

惰性氣體或反應(yīng)氣體  離化率高，膜層結(jié)合力強(qiáng)，鍍件溫升低，但分散性差  光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件

電場(chǎng)蒸發(fā)法  電子束  二次電子dc:1kv～5kv

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